SG/CALL/AIXTRON/38/0.1/21.03.25 Aktie

Warrant

SU717B

DE000SU717B2

Realtime Bid/Ask 10:54:15 07.06.2024
0.062 EUR / 0.072 EUR +15,52 % Intraday Chart für SG/CALL/AIXTRON/38/0.1/21.03.25
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WKNTyp Basispreis Fälligkeit Elastizität Delta ParitätKursEmittent
CALL 38 21.06.2024 9.74x 0.045 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 34 21.06.2024 11.36x 0.052 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 37 21.06.2024 10.03x 0.046 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 29 21.06.2024 15.48x 0.071 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 35 21.06.2024 10.82x 0.05 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 30 21.06.2024 14.37x 0.066 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 28 21.06.2024 17.2x 0.079 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 32 21.06.2024 12.52x 0.058 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 33 21.06.2024 11.93x 0.055 10

0,001 EUR

Société Générale
CALL 36 21.06.2024 10.4x 0.048 10

0,001 EUR

Société Générale
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06.06.24 0,058 +23,40 %
05.06.24 0,047 +27,03 %
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03.06.24 0,038 +2,70 %

verzögerte Kurse Börse Stuttgart

Letzte Aktualisierung Am 07. Juni 2024 um 09:40 Uhr

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Stammdaten

ProdukttypOptionsscheine
Kauf / VerkaufCALL
Basiswert AIXTRON SE
EmittentLogo Emittent Société Générale Société Générale
WKN SU717B
ISINDE000SU717B2
Emissionsdatum 08.02.2024
Basispreis 38
Fälligkeit 21.03.2025 (288 Tage)
Parität 10 : 1
Emissionspreis 0,44
Emissionsvolumen N/A
Rückzahlungsart Por diferencias
Währung EUR

Technische Kennzahlen

Hoch seit Emission 0,6
Tief seit Emission 0,036
Delta0.16x
Elastizität 5,558
Premium69.23x
Verschuldungsgrad34.1x
Moneyness 0,6013
Abst. Basispreis 15,28
Abst. Basispreis %+40,21%
Spread 0,01
Spread %13,89%
Theoretischer Wert 0,0670
Implizite Volatilität 45,56 %
Totalverlustwahrscheinlichkeit 91,72 %
Innerer Wert 0,000000
Zeitwert 0,0670
Break even 38,67 €
Theta-0x
Vega0x
Rho0x

Unternehmensprofil

AIXTRON SE ist ein Anbieter von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Die Technologielösungen des Unternehmens werden von einer Reihe von Kunden auf der ganzen Welt zur Herstellung von Bauelementen für elektronische und opto-elektronische Anwendungen auf der Basis von Verbindungs-, Silizium- oder organischen Halbleitermaterialien eingesetzt. Diese Komponenten werden in faseroptischen Kommunikationssystemen, drahtlosen und mobilen Telefonieanwendungen, optischen und elektronischen Speichergeräten, Computern, Signal- und Beleuchtungsanlagen, Displays sowie einer Reihe anderer Technologien eingesetzt. Die Geschäftstätigkeit des Unternehmens umfasst die Entwicklung, Herstellung und Installation von Anlagen für die Abscheidung von Halbleitern und anderen komplexen Materialien, Verfahrenstechnik, Beratung und Schulung, einschließlich laufender Kundenbetreuung und After-Sales-Service. Das Unternehmen beliefert seine Kunden sowohl mit Anlagen für die Materialbeschichtung im Produktionsmaßstab als auch mit kleinen Anlagen für Forschung und Entwicklung (F&E) oder die Produktion in kleinem Maßstab.
Sektor
-
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