Micron Technology, Inc. hat den ersten Spatenstich für seine Produktionsstätte für Speicher in Boise, Idaho, gesetzt. Dies wird die erste neue Produktionsstätte für Speicher in den Vereinigten Staaten seit 20 Jahren sein. Micron feierte den Spatenstich in Anwesenheit der US-Energieministerin Jennifer M. Granholm, der amtierenden Direktorin des Büros für Wissenschafts- und Technologiepolitik des Weißen Hauses, Dr. Alondra Nelson, des Senators Jim Risch, des Gouverneurs von Idaho, Brad Little, und der Bürgermeisterin von Boise, Lauren McLean.

Micron hat vor kurzem seinen Plan bekannt gegeben, bis zum Ende des Jahrzehnts etwa 15 Milliarden Dollar in die fortschrittliche Speicherproduktion in Boise zu investieren, die größte private Investition, die jemals in Idaho getätigt wurde. Dies ist Teil der bereits früher bekannt gegebenen Pläne von Micron, bis zum Ende des Jahrzehnts 40 Milliarden Dollar in den Aufbau einer Speicherproduktion in den USA zu investieren. Obwohl das kurzfristige Nachfrageumfeld für Arbeitsspeicher und Speichertechnik schwierig ist, wird erwartet, dass sich der Umsatz auf dem Speichermarkt bis 2030 verdoppeln wird. Neue Wafer-Produktionskapazitäten werden daher erforderlich sein, um die langfristige Nachfrage in Marktsegmenten wie Rechenzentren, Industrie, Automobil und Mobilfunk zu befriedigen, die durch die Einführung von künstlicher Intelligenz und 5G angeheizt wird.

Die Investition in die Boise-Fertigung ist Teil der Strategie von Micron, die DRAM-Produktion in den USA im nächsten Jahrzehnt auf 40 % der weltweiten Produktion des Unternehmens zu steigern. Micron befindet sich in der Endphase seines Auswahlverfahrens für einen weiteren hochvolumigen Produktionsstandort in den USA. Der Bau der neuen Produktionsstätte in Boise wird voraussichtlich Anfang 2023 beginnen, wobei die Reinraumflächen ab 2025 schrittweise in Betrieb genommen werden. Die neue DRAM-Produktion soll im Jahr 2025 beginnen und in der zweiten Hälfte des Jahrzehnts entsprechend dem Wachstum der Nachfrage in der Branche gesteigert werden.

Letztendlich wird die Reinraumfläche 600.000 Quadratfuß erreichen — das entspricht der Größe von etwa 10 US-Fußballfeldern und ist der größte einzelne Reinraum, der jemals in diesem Land gebaut wurde. Microns Investition wird mehr als 17.000 Arbeitsplätze in Idaho schaffen, darunter 2.000 direkte Micron-Arbeitsplätze, wenn der Reinraum ausgebaut und die Produktion voll hochgefahren ist. Im Rahmen des fortlaufenden Engagements des Unternehmens für die Gemeinde Idaho und zum weiteren Ausbau der Belegschaft wird Micron die Investitionen in K-12 MINT-Bildungsprogramme erhöhen, auf Partnerschaften mit Community Colleges und Universitäten aufbauen und neue Wege finden, um unterrepräsentierten und ländlichen Bevölkerungsgruppen Bildung und Ausbildung zu bieten.

Seit über 40 Jahren ist der Standort Boise das Innovationszentrum für Forschung und Entwicklung im Bereich Speicher. Dieses seit langem etablierte F&E-Zentrum für Speicher wird an einem Standort mit der fortschrittlichsten Halbleiterfertigung angesiedelt sein, was die spätere Technologieentwicklung in enger Partnerschaft mit der Fertigung ermöglicht. Die gemeinsame Ansiedlung bietet mehrere strategische Vorteile, darunter die Verbesserung der Effizienz von F&E und Fertigung, die Vereinfachung des Technologietransfers und die Verkürzung der Markteinführungszeit für Produkte. Micron wird in Boise die fortschrittlichsten Halbleiterfertigungsprozesse und -werkzeuge, einschließlich der extremen Ultraviolettlithographie (EUV), einsetzen, um die Branchenführerschaft bei mehreren DRAM-Generationen zu übernehmen.

Die Ansiedlung der DRAM-Produktion von Micron in den USA bringt für seine Kunden enorme Vorteile mit sich, da sie so ihre innovativen Produkte und Lösungen mit einer geografisch vielfältigeren Lieferkette entwickeln können. Im Einklang mit den lokalen und globalen Umweltverpflichtungen strebt Micron eine 100%ige Wiederverwendung, Wiederaufbereitung und Wiederherstellung von Wasser sowie die Nutzung von 100% erneuerbarem Strom in der neuen Anlage an. Darüber hinaus plant das Unternehmen, für den Bau der neuen Fabrik eine grüne Infrastruktur und nachhaltige Gebäudeeigenschaften zu nutzen, um den LEED-Status (Leadership in Energy and Environmental Design) in Gold zu erreichen.

Diese Bemühungen unterstützen Microns globales Ziel, die Treibhausgasemissionen aus dem Betrieb bis 2030 um 42% zu reduzieren und bis 2050 netto null Emissionen zu erreichen.