Park Systems kündigte Park NX-Mask an, das effektivste, sicherste und effizienteste Reparaturgerät für Fotomasken der neuen Generation. Park NX-Mask bietet optimierte Lösungen, die zwei Pods für die Bearbeitung von EUV-Masken in der Inline-Produktion unterstützen. Sie bietet eine Komplettlösung - von der automatischen Fehlerprüfung über die Reparatur von Fehlern bis hin zur Verifizierung der Reparatur - und beschleunigt so den Durchsatz bei einer noch nie dagewesenen Reparatureffizienz.

Park NX-Mask repariert selbst die schwierigsten Photomasken, indem es Defekte und Fremdkörper mit Nanometer-Genauigkeit und Angström-Präzision der Kantenpositionierung entfernt. Dies geschieht ohne Beeinträchtigung des reflektierenden Oberflächenmusters und ohne störende Ablagerungen wie Flecken und implantierte Elemente. Die automatische Defektüberprüfung ist Standard bei Park NX-Mask, eine praktische Funktion für EUV-Maskenreticles, die einen hohen Durchsatz, eine hohe Auflösung und keine zerstörerischen Risiken wie bei anderen Methoden, einschließlich E-Beam und Laser, mit sich bringt.

Darüber hinaus bietet Park NX-Mask eine vollautomatische AFM-Nanomessung für die Oberflächenrauheit und die Musterschritthöhe. Dies geschieht mit vertikaler Präzision im Sub-Angström-Bereich im berührungslosen Scan-Modus.