Darmstadt, 20. Januar 2012 - Die Merck KGaA präsentiert ihre Materialentwicklungen für die Optik- und Photonik-Industrie auf der SPIE Photonics West Exhibition vom 24. bis 26. Januar 2012 in San Francisco, Kalifornien, USA. Im Fokus stehen die Produktsortimente Patinal®, Solarpur® und Optipur®.


Der Markenname Patinal® steht für ein Produktportfolio an Aufdampfchemikalien, speziell entwickelt für die zuverlässige Herstellung komplexer Dünnschichtsysteme. Neben Fluoriden, Oxiden, Sulfiden und Metallen bietet das Patinal®-Produktsortiment spezielle Substanzen, die eine hohe Prozessstabilität, spezielle Brechungsindizes, hohe Umgebungsbeständigkeit und geringe Fluoreszenz kombinieren. Der Anwendungsbereich der Patinal®-Materialien deckt einen Wellenlängenbereich von VUV (157nm) über LWIR (ca. 17µm) hinaus ab.
Die WR Patinal®-Produktpalette ermöglicht eine reibungsarme Bedienung und leichte Reinigung von berührungsempfindlichen Oberflächen bei Smartphones und
Tablet-PCs. Diese hydro- und oleophoben Schichten werden ebenfalls im Automobilbereich, z. B. bei Rückfahrkameras, eingesetzt. Das WR-Patinal®-Sortiment wird gezielt für die hohen Anforderungen im Smartphone-Markt weiterentwickelt.

Seit Anfang 2012 hat Merck die im texanischen Austin ansässige Capitol Scientific, Inc. als Partner für den Vertrieb von Produkten der Patinal-Serie im Süden und der Mitte der USA gewonnen, Neben EMCO und Ultimate Index an der Westküste der USA ergänzt dieser neue Vertriebspartner als Dritter das Distributionsteam von Merck, um Kunden schnellen und effizienten Service anzubieten.

Neben der Patinal®-Produktpalette stellt Merck seine Innovationen innerhalb seines Solarpur®- und Optipur®-Sortiments vor:

· Solarpur® ermöglicht extrem dünne Antireflex-Breitbandbeschichtungen für
Solar Panels. Hierdurch wird die solare Transmission einer Glasfläche auf
ca. 98% erhöht und steigert so die Effizienz von Photovoltaikanlagen erheblich.

· Optipur®-Materialien sind hochreine anorganische Verbindungen für die
zuverlässige Herstellung von Einkristallen verschiedenster Anwendungsbereiche, wie zum Beispiel hochauflösende Bildgebungsverfahren in der
Nuklear-Medizin oder hochtransparente Linsen in für DUV- und VUV-Anwendungen in der Laserlithographie.

Auf dem Ausstellungsstand von Merck (Halle D, Stand 5509) wird ein Team von
Experten der Marketing- und Vertriebsorganisation anwesend sein, um die
Produkte vorzustellen und Fragen zu beantworten.

Die SPIE Photonics West Ausstellung ist weltweit wichtigster Treffpunkt für die
Photonik- und Laserindustrie und Plattform zur Präsentation der neuesten
Entwicklungen und Techniken dieser Branche. Sie ist Teil der SPIE Photonics West
Conference and Exhibition, die vom 21. bis 26. Januar 2012 in San Francisco,
Kalifornien, stattfinden wird. In diesem Jahr erwartet der Veranstalter etwa
1.150 Aussteller und über 19.000 Besucher.

Weitere Infos unter www.emd-chemicals.


distribué par

Ce noodl a été diffusé par Merck KGaA et initialement mise en ligne sur le site http://www.merckgroup.com. La version originale est disponible ici.

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