Darmstadt, 20. Januar 2012 - Die Merck KGaA präsentiert ihre Materialentwicklungen für die Optik- und Photonik-Industrie auf der SPIE Photonics West Exhibition vom 24. bis 26. Januar 2012 in San Francisco, Kalifornien, USA. Im Fokus stehen die Produktsortimente Patinal®, Solarpur® und Optipur®. |
Der Markenname Patinal® steht für ein Produktportfolio an
Aufdampfchemikalien, speziell entwickelt für die zuverlässige
Herstellung komplexer Dünnschichtsysteme. Neben Fluoriden,
Oxiden, Sulfiden und Metallen bietet das
Patinal®-Produktsortiment spezielle Substanzen, die eine hohe
Prozessstabilität, spezielle Brechungsindizes, hohe
Umgebungsbeständigkeit und geringe Fluoreszenz kombinieren.
Der Anwendungsbereich der Patinal®-Materialien deckt einen
Wellenlängenbereich von VUV (157nm) über LWIR (ca. 17µm)
hinaus ab.
Die WR Patinal®-Produktpalette ermöglicht eine reibungsarme
Bedienung und leichte Reinigung von berührungsempfindlichen
Oberflächen bei Smartphones und
Tablet-PCs. Diese hydro- und oleophoben Schichten werden
ebenfalls im Automobilbereich, z. B. bei Rückfahrkameras,
eingesetzt. Das WR-Patinal®-Sortiment wird gezielt für die
hohen Anforderungen im Smartphone-Markt weiterentwickelt.
Seit Anfang 2012 hat Merck die im texanischen Austin
ansässige Capitol Scientific, Inc. als Partner für den
Vertrieb von Produkten der Patinal-Serie im Süden und der
Mitte der USA gewonnen, Neben EMCO und Ultimate Index an der
Westküste der USA ergänzt dieser neue Vertriebspartner als
Dritter das Distributionsteam von Merck, um Kunden schnellen
und effizienten Service anzubieten.
Neben der Patinal®-Produktpalette stellt Merck seine
Innovationen innerhalb seines Solarpur®- und
Optipur®-Sortiments vor:
· Solarpur® ermöglicht extrem dünne
Antireflex-Breitbandbeschichtungen für
Solar Panels. Hierdurch wird die solare Transmission einer
Glasfläche auf
ca. 98% erhöht und steigert so die Effizienz von
Photovoltaikanlagen erheblich.
· Optipur®-Materialien sind hochreine anorganische
Verbindungen für die
zuverlässige Herstellung von Einkristallen verschiedenster
Anwendungsbereiche, wie zum Beispiel hochauflösende
Bildgebungsverfahren in der
Nuklear-Medizin oder hochtransparente Linsen in für DUV- und
VUV-Anwendungen in der Laserlithographie.
Auf dem Ausstellungsstand von Merck (Halle D, Stand 5509)
wird ein Team von
Experten der Marketing- und Vertriebsorganisation anwesend
sein, um die
Produkte vorzustellen und Fragen zu beantworten.
Die SPIE Photonics West Ausstellung ist weltweit wichtigster
Treffpunkt für die
Photonik- und Laserindustrie und Plattform zur Präsentation
der neuesten
Entwicklungen und Techniken dieser Branche. Sie ist Teil der
SPIE Photonics West
Conference and Exhibition, die vom 21. bis 26. Januar 2012 in
San Francisco,
Kalifornien, stattfinden wird. In diesem Jahr erwartet der
Veranstalter etwa
1.150 Aussteller und über 19.000 Besucher.
Weitere Infos unter www.emd-chemicals.
distribué par | Ce noodl a été diffusé par Merck KGaA et initialement mise en ligne sur le site http://www.merckgroup.com. La version originale est disponible ici. Ce noodl a été distribué par noodls dans son format d'origine et sans modification sur 2012-01-21 20:14:18 PM et restera accessible depuis ce lien permanent. Cette annonce est protégée par les règles du droit d'auteur et toute autre loi applicable, et son propriétaire est seul responsable de sa véracité et de son originalité. |