Ion Electronic Materials Co., Ltd. Aktie

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Chemie - Rohstoffe

Schlusskurs Taipei Exchange 00:00:00 09.05.2024 % 5 Tage % 1. Jan.
149,5 TWD -2,92 % Intraday Chart für Ion Electronic Materials Co., Ltd. -13,08 % +27,78 %
Umsatz 2022 943 Mio. 29,13 Mio. 27 Mio. Umsatz 2023 469 Mio. 14,49 Mio. 13,43 Mio. Marktwert 3,94 Mrd. 122 Mio. 113 Mio.
Nettoergebnis 2022 105 Mio. 3,24 Mio. 3 Mio. Nettoergebnis 2023 88 Mio. 2,72 Mio. 2,52 Mio. EV / Sales 2022 * -
Nettoliquidität 2022 567 Mio. 17,49 Mio. 16,21 Mio. Nettoliquidität 2023 211 Mio. 6,51 Mio. 6,04 Mio. EV / Sales 2023 7,94 x
KGV 2022 *
-
KGV 2023
45 x
Beschäftigte 23
Rendite 2022 *
-
Rendite 2023
1,04 %
Streubesitz 97,03 %
Dynamischer Chart
1 Tag-2,92 %
1 Woche-13,08 %
Aktueller Monat-13,08 %
1 Monat-11,80 %
3 Monate+24,58 %
6 Monate+51,32 %
Laufendes Jahr+27,78 %
Mehr Kurse
1 Woche
143.00
Kursextrem 143
168.50
1 Monat
142.50
Kursextrem 142.5
183.00
Laufendes Jahr
100.00
Kursextrem 100
183.00
1 Jahr
89.70
Kursextrem 89.7
191.00
3 Jahre
89.70
Kursextrem 89.7
191.00
5 Jahre
89.70
Kursextrem 89.7
191.00
10 Jahre
89.70
Kursextrem 89.7
191.00
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Datum Kurs % Volumen
09.05.24 149,5 -2,92 % 464 956
08.05.24 154 +0,65 % 327 724
07.05.24 153 -1,29 % 1 022 425
06.05.24 155 -3,12 % 783 367
03.05.24 160 -3,61 % 728 247

Schlusskurs Taipei Exchange, Mai 09, 2024

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Ion Electronic Materials Co Ltd ist in der Bereitstellung von Spezialgasen und Maschinen tätig. Zu den Geschäftsbereichen des Unternehmens gehören die Produktion und der Verkauf von Spezialgasen und Maschinen. Zu den Spezialgasen gehören Dotiergas, Reinigungs- und Ätzgas, CVD-Dünnschichtgas und Laserlithogas. Dotiergas wird als Spezialgas für den Halbleiter-Ionenimplantationsprozess und nach der Implantation verwendet. Dazu gehören Arsin, Phosphin, Bortrifluorid (11B), mit 11B angereichertes Bortrifluorid und Germaniumtetrafluorid. Zu den Reinigungs- und Ätzgasen gehören Stickstofftrifluorid, das als Reinigungsgas in Halbleitern und Flüssigkristallplatten verwendet wird, sowie F2/N2-Gemischgas, das in der Elektronik, Lasertechnik und medizinischen Geräten eingesetzt wird. CVD-Dünnschichtgas umfasst SiH4, Si2H6, DCS und TCS, die in der Halbleiterindustrie verwendet werden. Laserlitho-Gas umfasst ArF193nm, KrF248nm, Laser-Glühgas, Ne und Kr, die im Photoresist-Prozess verwendet werden. Für das Nachfüllen von Spezialgas werden Maschinen verwendet.
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