Piotech Inc. Aktie

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CNE100005998

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Halbleiter-Zubehör

Schlusskurs Shanghai S.E. 00:00:00 20.05.2024 % 5 Tage % 1. Jan.
179,5 CNY -1,05 % Intraday Chart für Piotech Inc. +6,69 % -22,38 %
Umsatz 2024 * 4,04 Mrd. 559 Mio. 514 Mio. Umsatz 2025 * 5,51 Mrd. 762 Mio. 702 Mio. Marktwert 33,75 Mrd. 4,67 Mrd. 4,3 Mrd.
Nettoergebnis 2024 * 846 Mio. 117 Mio. 108 Mio. Nettoergebnis 2025 * 1,16 Mrd. 160 Mio. 148 Mio. EV / Sales 2024 * 7,37 x
Nettoliquidität 2024 * 3,98 Mrd. 549 Mio. 506 Mio. Nettoliquidität 2025 * 4,69 Mrd. 649 Mio. 597 Mio. EV / Sales 2025 * 5,27 x
KGV 2024 *
39,9 x
KGV 2025 *
26,4 x
Beschäftigte 1.070
Rendite 2024 *
0,22 %
Rendite 2025 *
0,35 %
Streubesitz 69,77 %
Dynamischer Chart
1 Tag-1,05 %
1 Woche+6,69 %
Aktueller Monat-1,18 %
1 Monat+5,20 %
3 Monate-2,97 %
6 Monate-26,02 %
Laufendes Jahr-22,38 %
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1 Woche
165.42
Kursextrem 165.42
183.77
1 Monat
163.79
Kursextrem 163.79
194.93
Laufendes Jahr
146.50
Kursextrem 146.5
228.00
1 Jahr
146.50
Kursextrem 146.5
312.16
3 Jahre
59.53
Kursextrem 59.527
331.08
5 Jahre
59.53
Kursextrem 59.527
331.08
10 Jahre
59.53
Kursextrem 59.527
331.08
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Manager TitelAlterSeit
Chief Executive Officer 53 28.04.10
Director of Finance/CFO 44 01.07.18
Investor Relations Contact - -
Aufsichtsräte TitelAlterSeit
Director/Board Member 80 01.12.15
Director/Board Member 53 08.01.21
Director/Board Member 72 28.04.10
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Datum Kurs % Volumen
20.05.24 179,5 -1,05 % 1 215 686
17.05.24 181,4 +3,46 % 1 618 875
16.05.24 175,4 -0,07 % 1 421 746
15.05.24 175,5 +4,09 % 2 375 828
14.05.24 168,6 +0,20 % 1 279 392

Schlusskurs Shanghai S.E., Mai 20, 2024

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Piotech Inc. ist ein in China ansässiges Unternehmen, das sich hauptsächlich mit der Forschung, der Entwicklung und dem Vertrieb von Anlagen zur Halbleiter-Dünnschichtabscheidung beschäftigt. Das Unternehmen bietet hauptsächlich drei Produktreihen an. Anlagen für die plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) können einen festen Dünnfilm auf der Oberfläche von Siliziumwafern erzeugen und werden hauptsächlich für die Herstellung von Speicherchips verwendet. Anlagen für die Atomlagenabscheidung werden hauptsächlich für die Herstellung von Logikchips verwendet. Anlagen für die chemische Gasphasenabscheidung (SACVD) werden hauptsächlich für die Herstellung von Wafern verwendet. Das Unternehmen vertreibt seine Produkte hauptsächlich auf dem heimischen Markt.
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